Sulfur-2 Mask
深層淨化面膜，專為乾而又有粉刺問題的皮膚設計，改善毛孔閉塞，減少多餘油脂，有助治癒及鎮靜皮膚，以降低粉刺形成(面疱、丘疹及膿疱)。
容量：60g
主要成份：高嶺土、膨潤土、茶樹油、乳酸、尤加利油
使用方法：適量塗上皮膚，等待五至十分鐘，然後用溫水清洗並接著使用保濕產 品。每星期一至三次使用。